Dünnschicht- und Hochtemperaturprozesse

Im Bereich Dünnschichttechnik werden Sputtern und thermisches Bedampfen eingesetzt, um dünne Schichten auf Substraten abzuscheiden. Ein horizontaler Ofen steht für Oxidationsprozesse zur Verfügung, unter anderem zur Erzeugung von SiOₓ-Schichten auf Silicium, sowie für Nitridierung und Festphasendiffusion zur Erzeugung von Dotierprofilen. Die Anlagen werden in Forschung und Lehre genutzt und kommen in Laborpraktika für die Herstellung der für die Bauelemente benötigten Schichtsysteme zum Einsatz.

• PVD-Bedampfung von Dünnschichten: HVT Dresden, Bedampfungsanlage B30
• PVD-Sputterbeschichtung: Leybold GmbH, Sputteranlage Z400
• Hochtemperaturdiffusion, Annealing und thermische Oxidation: BTU Bruce Systems, 4-Stock Hochtemperatur-Horizontalofen Typ 7800 (modifiziert)
• Dotierung, Diffusion und thermische Oxidation: THERMCO Products Corporation, 4-Stock Hochtemperatur- und LP-CVD-Horizontalofen Typ 4100 (modifiziert)
• Trocknung von Resisten hoher Schichtdicke: Infrarotofen, Eigenanfertigung WHZ