Photolithographie und Maskentechnik

Im Bereich Photolithographie stehen eine Lackstraße mit Spin Coater und Hotplate sowie ein Belichter und ein Pattern Generator zum Erzeugen von Belichtungsmasken zur Verfügung. Damit können Fotolacke auf Substraten aufgebracht, getempert und anschließend mit definierten Strukturen belichtet werden. Die Ausstattung wird in Forschung und Lehre genutzt und kommt auch in Laborpraktika zur Herstellung mikrostrukturierter Proben zum Einsatz.

• Optische Kontaktlithographie von Wafern: MA6 mit Mikrooptik und BSA, Suess Microtec GmbH
• Photoresistbeschichtung und Bake-Prozesse: Lackstraße VS6583 (modifiziert) inkl. Semitec Spin Coater, Convac GmbH
• Spin-Coating von Photoresist, Sol-Gel und Spin-on-Dotiermaterialien: Spin 200, Ramgraber
• Optische Inspektion in Lithographie und Waferprozessierung: Lichtmikroskop Typ 228303, Nikon
• Plasma-Entfernung von Resist und organischen Rückständen: Plasma-Verascher 300AL, PVA Tepla
• Erzeugung von Photomasken aus Layoutdaten: Pattern Generator GCA MANN 3600